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尚積半導體

  • 公司名稱:無錫尚積半導體科技有限公司
  • 項目描述:尚積半導體主營設備包括金屬濺射沉積(PVD),加強型等離子化學氣相沉積(PECVD),等離子干法刻蝕(ETCH)三個領域。
公司地址:無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號廠房
成立時間:2021-06-22
企業(yè)發(fā)展階段:不明情況
創(chuàng)始人:王世寬
管理團隊:王世寬 夏小軍 靳佩臻 王兆豐 許磊 陳鈺波
發(fā)展歷史和介紹:

  無錫尚積半導體科技有限公司是一家專業(yè)研發(fā)、生產半導體國產自研設備的廠商,主營設備包括金屬濺射沉積(PVD),加強型等離子化學氣相沉積(PECVD),等離子干法刻蝕(ETCH)三個領域,服務于為全球的功率器件(Power Device),微機電系統(tǒng)(MEMS)、先進封裝(Advanced Packaging)、化合物半導體(III-V)、射頻(RF)、集成電路(IC)客戶。設備具備優(yōu)異的重復性和穩(wěn)定性、低故障率、長使用壽命、易操作維修。得到客戶的廣泛認可。


  尚積半導體的氧化釩(VOx) 薄膜沉積,RF領域薄膜電阻關鍵工藝如氮化鉭(TaN)等薄膜沉積,TC-SAW SiO2薄膜沉積,高真空吸氣薄膜(Getter)沉積,技術參數均超越進口設備,在客戶端已經量產,市占率遙遙領先。

企業(yè)內容:

  在功率器件市場,尚積半導體正面Hot Al設備填孔平坦化能力優(yōu)異,深寬比做到3:1,超越進口設備;背面金屬濺射BSM性能穩(wěn)定,產能是進口設備近兩倍。特別是在SiC領域,市占率遙遙領先。


  尚積半導體在IC領域積累了二十余年的豐富經驗,在高深寬比填孔、均勻性優(yōu)化、應力控制、薄膜的多樣性及復雜性等多個技術領域有很深的造詣。


  尚積半導體的PECVD和ETCH設備在MEMS、RF、Power等領域可以替代進口設備,并提供更優(yōu)的工藝解決方案。

"備注:以上信息來自于網絡公開信息,并不是由該企業(yè)發(fā)布,如果有誤,請聯系客服微信修改。"

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